WEKO3
アイテム / Effect of gas flow on the growth of In-rich AlInN films by metal-organic chemical vapor deposition / J
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ファイル | ライセンス |
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J.Applied_.Physics_Vol.106..pdf (550.0 kB) sha256 89ec6d27940748112bc9f07d6f31b5e031db7567af9ea569bafd96aa7987204f | American Institute of Physics |
公開日 | 2009-10-09 | |||||
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ファイル名 | J.Applied_.Physics_Vol.106..pdf | |||||
本文URL | https://u-fukui.repo.nii.ac.jp/record/22314/files/J.Applied_.Physics_Vol.106..pdf | |||||
ラベル | J.Applied_.Physics_Vol.106..pdf | |||||
フォーマット | application/pdf | |||||
サイズ | 550.0 kB |
Version | Date Modified | Object File Name | File Size | File Hash Value | Contributor Name | Show/Hide |
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